"സിലിക്കൺ" എന്ന താളിന്റെ പതിപ്പുകൾ തമ്മിലുള്ള വ്യത്യാസം

സിലിക്കണിനെ നേരിട്ട് ശുദ്ധീകരിക്കുന്നതിനു പകരം, ആദ്യം മറ്റു സംയുക്തങ്ങളാക്കി മാറ്റിയ ശേഷം അതിൽ നിന്നും ശുദ്ധമായ സിലിക്കൺ വേർതിരിച്ചെടുക്കുന്ന രീതി ആണ്രീതിയാണ് ഇന്ന് കൂടുതലായും അവലംബിക്കുന്നത്. [[ട്രൈക്ലോറോ സൈലേൻ]] ആണ് ഇത്തരത്തിൽ ഉപയോഗിക്കുന്ന ഒരു പ്രധാന സംയുക്തം. [[സിലിക്കൺ ടെട്രാക്ലോറൈഡ്]], [[സൈലേൻ]] എന്നീ സംയുക്തങ്ങളും ഈ ആവശ്യത്തിനു വേണ്ടി ഉപയോഗിക്കുന്നുണ്ട്. ഉയർന്ന താപനിലയിൽ, ഈ വാതകങ്ങൾ സിലിക്കണിനു മുകളിലൂടെ പ്രവഹിപ്പിക്കുമ്പോൾ അവയിൽ നിന്നും ശുദ്ധ സിലിക്കൺ വേർതിരിയുന്നു.

ഇലക്ട്രോണിക് ഉപകരണങ്ങൾക്കു വേണ്ട സിലിക്കൺ പരലുകൾ അധികവും നിർമ്മിച്ചെടുക്കുന്നത്, [[ചൊക്രാൾസ്കി പ്രക്രിയ|ചൊക്രാൾസ്കി പ്രക്രിയയിലൂടെയാണ്]] (Czochralski process, (CZ-Si)). വളരെ ചെലവു കുറഞ്ഞതാണെന്നതും വളരെ വലിയ പരലുകൾ ഈ രീതിയിലൂടെ നിർമ്മിച്ചെടുക്കാമെന്നതുമാണ് ഇതിന്റെ മേന്മകൾ. എങ്കിലും കൂടുതൽ ശുദ്ധത ആവശ്യമുള്ള ഉപയോഗങ്ങൾക്ക് (ഉന്നത ശക്തി ഉപയോഗങ്ങൾക്ക് (high power applications)) [[ഫ്ലോട്ട്-സോൺ സിലിക്കൺ]] (float-zone silicon (FZ-Si)) എന്ന രീതിയാണ് പരൽ നിർമ്മാണത്തിന് ഉപയോഗിക്കുന്നത്. FZ-Si രീതിയിലൂടെ വലിയ പരലുകൾ നിർമ്മിക്കുന്നത് എളുപ്പമല്ല. അതുകൊണ്ട് ചൊക്രാൾസ്കി രീതി തന്നെയാണ് അർദ്ധചാലകവ്യവസായരംഗത്ത് സിലിക്കൺ പരലുകൾ നിർമ്മിക്കുന്നതിനുപയോഗിക്കുന്ന ഏറ്റവും പ്രധാനപ്പെട്ട രീതി.